電子線式半導体ウェーハパターン検査装置
NGR5000シリーズ
Wafer Geometry Verification System NGR5000 Series
＜概要＞
NGR5000 Seriesは、高性能化に向けて多層化が進むNANDメモリー半導体や、微細化が進むDRAMメモリー半導体およびロジック半導体製造メーカー向けに展開し、製造工程の効率化に貢献します。 NGR5500は、電子線顕微鏡に使用する電子の加速電圧を50kVにまで高めることに成功しました。加速電圧を上げることで高層化が進む半導体デバイスに対して高画質な画像を取得することが可能になり、高い精度の検査・計測を実現します。
NGR5300は、従来機種であるNGR3500シリーズの後継機種として開発されました。新開発の光学系および画像取得システム、高速ステージにより、最先端半導体で要求される検査・計測精度およびスループットを実現しています。
＜電子線式半導体ウェーハパターン検査装置NGR5000シリーズ 仕様＞
| 製品名 | 装置特徴 | 仕様 |
|---|---|---|
| NGR5500 | NGR5500は、可変電圧による電子ビームを用い、広域視野の画像取得を行い、広域視野により多点測定データ、広域パターンの検査、計測が可能な装置です。 高加速電子ビームを半導体ウェーハ上のパターンに照射し、二次電子信号と反射電子信号による画像を生成し、この画像を用いて検査及び計測が可能です。高アスペクトパターンに対しては、寸法、チルト量等のパターン形状を測定することができます。また、複数層のパターンに対しては、層間のパターンのオーバーレイ測定を行うことが可能です。 |
ウェーハサイズ：Φ300mm（SEMI規格Vノッチウェーハ） |
| NGR5300 | NGR5300は、最先端の半導体デバイスに適用されるe-beamウェーハパターン検証システムです。NGR5300は、広域視野の画像を取得可能な独自の電子ビーム光学系と、ウェーハ上のパターンを検査・測定するD2DB（Die to Database）アルゴリズムを備えています。 NGR5300は、NGR3500シリーズの後継機種です。XYステージ、電子ビーム光学系、プラットフォーム、画像処理系に最新技術を採用し、高スループットと高精度な検査・計測を実現します。 |
ウェーハサイズ：Φ300mm（SEMI規格Vノッチウェーハ） |
| NDAS (NGR Data Analysis System) |
NDASは、独自の統計解析アルゴリズムを搭載したデータ解析システムです。 NGR5000シリーズから出力される大量のデータ（数100万点～数1000万点）を取得し、これらのデータを統計解析することで半導体デバイス製造歩留り改善に寄与するデータを可視化することが可能となります。 |
1つのNDASサーバーに最大5ユーザーが同時アクセス可能 |
| アプリケーション （実績例） |
Hot Spot 抽出/モニタリング プロセスウィンドウ評価 OPC 最適化 CD Uniformity計測 CD分布解析 In-Chip Overlay計測 EPE計測 |
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本 社 : (045)507-3330