TASMITについて

ナノ技術で半導体検査・計測の
新世界を創造

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電子線式半導体ウェーハパターン
検査装置

設計データとSEM画像との比較を行う
「Die to Database アルゴリズム」の採用により、
先端半導体デバイス製造におけるシステマティックな問題を
迅速に解決します。

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光学式半導体ウェーハ検査装置

半導体製造工程での各種検査装置をラインアップしています。
いずれも高い信頼性・操作性、最小のランニングコストなどで、
高い評価を得ています。

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採用情報

独創的な技術開発にチャレンジする
意欲ある人材を広く募集しています。

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世界標準の創出

ナノ技術で半導体検査・計測の新世界を創造

お知らせ

一覧

2021年 2月 8日お知らせNEW
台湾支店の統合に関するお知らせ
2020年12月1日お知らせ
TASMIT Korea, Inc.の体制変更に関するお知らせ
2020年4月22日お知らせ
「SPIE Advanced Lithography 2020」にて論文発表
2020年 4月 1日お知らせ
ホームページをリニューアルしました
2020年 1月 6日お知らせ
新年、あけましておめでとうございます