2020年 4月22日

「SPIE Advanced Lithography 2020」にて論文発表

2月23日（日）～2月27（木）に米国San Joseにて開催された「SPIE Advanced Lithography 2020」で発表した3つの論文を掲載いたしました。

・Massive metrology of 2D logic patterns on BEOL EUVL
・Realizing more accurate OPC models by utilizing SEM contours
・Contour extraction algorithm for edge placement error measurement using machine learning

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