ロールtoロール ドライ成膜装置Roll to Roll DRY Deposition Equipment

当社独自成膜プロセスであるCVDとミラートロンをはじめとするスパッタ、蒸着を用いて、試験装置から量産装置まで幅広い装置のご提案が可能です。

<装置仕様(例)>


量産装置
フィルム種類 PET、PEN、PC etc.
膜種 SiO2、SiCN(CVD)
ITO、IZO、SiOx、SiNx、AlxOx、Al、Cu、Ag、Mo他(スパッタ)
ロールサイズ 基材幅:1,400mm
ロール径:Φ500mm
装置構成 ロール用チャンバー:2(巻取・巻出)
成膜用チャンバ:1
カソード数:1~4
成膜源:CVD、スパッタ
【バリア膜用CVD量産装置性能(例)】 
※下記内容は保証値ではありません。
  • 水蒸気透過率 : 10-3g/m2/day
  • 無機膜の積層数 : 6層(バリア層:3層、バッファ層:3層)
  • 生産量 : 50万m2/年
  • 成膜コスト : 300円/m2
    ※低コストでハイバリア膜の成膜のご提案が可能!


試験装置
フィルム種類 PET、PEN、PC etc.
膜種 SiO2、SiCN(CVD)
ITO、IZO、SiOx、SiNx、AlxOx、Al、Cu、Ag、Mo他(スパッタ)
ロールサイズ 基材幅:300mm~600mm
ロール径:Φ200mm
装置構成 一体チャンバ:1
カソード数:1~2
ターゲット種類:CVD、スパッタ
※台車引き出し式により、成膜ソース簡単切替!

※枚葉装置も提供可能です。

<成膜ソース>

○CVD

<特長>

  • 水蒸気透過率 : 10-3~10-6g/m2/day
  • 低温成膜 : 成膜温度 80~150℃
  • 高透明 : 光透過率 90%以上(可視光領域にて)
  • フレキシブル性 : バリア層(SiO2)とバッファ層(SiCN)の積層構造

<用途>

  • ハイバリア(封止膜)、絶縁膜等の高機能フィルム
  • 有機EL、有機太陽電池、IoT用センサーQD等のフレキシブルデバイスへの直接成膜


ミラートロンスパッタ用カソード

○ミラートロンスパッタ

<特長>

  • 独自の磁場設計による低温・低ダメージ成膜
  • 有機EL、有機太陽電池などの透明電極に最適。
  • 薄化する基材への熱変形をおさえた成膜が可能。
  • 高いターゲット利用効率

<用途>

  • 各種有機デバイスへの直接成膜
  • 各種高機能フィルム
    ※研究開発・サンプル製作から量産まで幅広く対応!

※低価格な汎用平行平板カソードや高生産性のロータリーカソードも対応いたします。

  • 汎用平行平板カソード
  • ロータリーカソード

※その他、蒸着ソースも各種取りそろえております。

  • ラインソース
    有機材料用蒸着源
  • オープンセル
    高いレートと安定性
  • バルブドセル
    超高速レート応答

※ロールtoロールドライ成膜装置については、長州産業(株)とアライアンス契約を締結しております。

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