ロールtoロール バリア膜成膜装置High Barrier Deposition Equipment for Thin Film PV Cells
独自成膜プロセスを行い、高バリア性とフレキシブル性を低コストで実現
封止膜 設備
量産装置
CVD法により、ハイバリアフィルムに適した封止膜が得られます。
＜特徴＞
- 水蒸気透過率 : 1×10-4～1×10-5 (g/m2・day)
- 無機膜による積層 : 10～30層
- 高透明性 : 光透過率 90％以上 (可視光領域にて)
＜用途＞
ハイバリアフィルム、超ハイバリアフィルム、高機能フィルム、フレキシブルデバイスへの直接封止による超寿命化
＜量産装置性能（例）＞
- 水蒸気透過率（WVTR） : 1×10-4b/m2・day台
※層数を増すことで10-6も可能 - 無機膜による積層 : Total6層
- 生産量 : 50万m2/年
- 成膜コスト : 400円/m2
＜装置仕様(例)＞
| 量産装置 | 試験装置 | |
|---|---|---|
| フィルム種類 | PET、PEN、PC、ect. | PET、PEN、PC、ect. |
| ロールサイズ |
基材フィルム値：1.4m ロール径：Φ500mm |
基材フィルム値：300mm ロール径：Φ200mm |
| 装置構成 |
ロール用チャンバ：2 成膜用チャンバ：1 プラズマ電極：4 |
一体チャンバ：1 プラズマ電極：1 |
お問い合わせ先
- お問い合わせ
-
東 京： 03-3241-1491
滋 賀： 077-533-7388